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張忠謀當年為何找上ASML?專訪《造光者》作者,揭祕晶片戰爭下的隱形巨頭

從飛利浦實驗室邊陲出發的艾司摩爾,如何成為晶片戰爭裡最不可或缺的「造光者」?《造光者》作者海因克觀察,EUV不只改寫技術版圖,也背負地緣政治棋子的風險,中國技術真落後20年?答案比你想的複雜。

造光者-艾司摩爾-ASML-台積電-晶片-半導體-荷蘭-EUV 《造光者》作者海因克(Marc Hijink)描繪了艾司摩爾從飛利浦實驗室邊緣的小公司,成長為主宰全球半導體生產命脈的過程。圖片來源:謝寬攝
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在全球晶片戰爭的敘事裡,台積電幾乎總是被點名為台灣的「護國神山」。而在地球的另一端,來自荷蘭的艾司摩爾,則是這場角力裡最不可或缺的「造光者」,它生產的極紫外光曝光機(EUV),是目前唯一能把電路「刻」到幾奈米尺度的設備,沒有它,先進製程根本不可能存在。

《天下雜誌》出版《造光者》,作者荷蘭資深記者海因克(Marc Hijink)描繪了艾司摩爾從飛利浦實驗室邊緣的小公司,成長為主宰全球半導體生產命脈的過程。

「其實,艾司摩爾和台積電的精神是很相像的,」海因克觀察。這名艾司摩爾專家,在疫情後已三度來台,相當關心美中晶片角力下的台積與台灣半導體業。

艾司摩爾雖然位於歐洲,但它的命運和台積有著驚人相似:兩者都因技術過於關鍵而成為全球矚目焦點,同時也在美中晶片戰爭白熱化後,背負地緣政治棋子的風險。

海因克解釋,EUV在實驗室存在已久,但要讓它真正能在台積、三星和英特爾的工廠裡創造價值,「那是完全不同的挑戰,這也是我寫這本書,挖掘艾司摩爾如何走到今日地位的原因。」以下為專訪整理:


問:艾司摩爾是唯一能量產EUV曝光機的公司,如今更邁向更先進的High-NA EUV技術。但能負擔的客戶卻變少,這是艾司摩爾的挑戰嗎?

答:我不太同意這個看法。

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我認為,艾司摩爾的先進技術之所以重要,是因為它能把競爭對手擋在門外,同時為客戶帶來更多價值。但就算是最先進的晶片,也不是所有層都用EUV或High-NA,很多結構還是依賴DUV(編按:比EUV早一代的微影設備,精度較低,廣泛應用在成熟製程),所以整個堆疊仍需要不同世代的微影技術配合。

上一代DUV依然不可或缺

回顧EUV上市時,艾司摩爾原本以為產業會全面轉向EUV,卻發現DUV的需求並沒有減少,反而持續成長。

AI帶動了對最先進晶片的需求,但電動車、能源網路和通訊設備也需要大量成熟節點晶片,這些還是依賴DUV。這也是為什麼公司不只在推進最尖端的機台,也不斷改進DUV,包括提高產能、對準精度,甚至還為先進封裝開發新的DUV機台。這都顯示DUV在長期內仍然關鍵。

不過短期內,貿易戰和投資不確定性讓業界遲疑,艾司摩爾也面臨供應鏈壓力。

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問:台積佔艾司摩爾營收比重高,這是風險嗎?地緣政治壓力下,艾司摩爾如何分散風險?

答:台積和艾司摩爾之間有共同的默契:誰更擅長,就交給誰去做,彼此專注在自己的專業領域。

正因為這樣的分工合作,雙方的創新速度往往比競爭對手更快。

回到早期,當張忠謀創辦台積電時,他到處找技術伙伴。先去日本,但日本不願意在家門口養出競爭者;回到美國找英特爾和德州儀器,也被拒絕。

最後他找到飛利浦,飛利浦雖然剛搞砸「歐洲晶片專案」(編按:1980年末,歐洲想靠國家隊追趕美日的半導體計劃),但還有技術可供使用,甚至願意讓台積電嘗試當時剛分拆出來專做曝光機的公司──艾司摩爾。

這個合作非常關鍵,因為曝光機是晶圓廠的核心設備,也是最昂貴的機台,一旦製程跑順了,不會輕易更換。當時英特爾已經擁有大客戶,並不急著採用新技術,艾司摩爾與身為挑戰者的台積電合作,才能促成雙方一同成長。

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ASML-艾司摩爾(謝佩穎攝)

「去風險化」應對供應鏈變局

至於風險,我認為產業已經在調整。

台積在美國亞利桑那的投資,在新加坡、歐洲、日本也同步擴張。艾司摩爾就跟著客戶走,把供應鏈和生態系推向全球。結果就是對單一地區的依賴降低了。

當然,中美衝突是一個因素,但更深層的理由是:晶片在日常生活已經像飲用水一樣,你不會想完全仰賴鄰國供應。疫情更是一記警鐘——我們不能只靠一個國家或一家公司。

所以,台積選擇全球佈局,艾司摩爾則透過「去風險化」來應對,在東南亞、美國建立供應鏈,降低貿易戰和關稅帶來的衝擊。

問:面對地緣政治壓力,艾司摩爾和歐洲政府有什麼做法?

答:從國家角度,很有意思。

其實直到美國拍了拍荷蘭的肩膀說,「嘿,你們有家公司在造關鍵設備,不可以賣到中國,否則他們的技術會太快變強,可能危害我們的經濟與國安。」大多數荷蘭人才恍然大悟,原來我們有家公司這麼重要。

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在此之前,一般人對國力的印象更多來自鹿特丹港、史基浦機場或旅遊業,而不是高科技製造。

我不是政治人物,政府有什麼決策,我也是看新聞得知。不過,這些決策是從政治角度出發,目前仍在快速變動,很難從產業角度下結論。即便政治領袖今天握了手,明天情勢可能又不同。

問:最近高盛一份報告指出,中國微影技術還停留在65奈米世代,落後歐美至少20年。你怎麼看?

答:EUV的出口限制確實發揮了作用,中國和歐美領先業者相比落後兩到三個世代。但限制同時也刺激了創新,推動產業前進。中國在工程和軟體上有人才,他們會不斷尋找替代路徑。

中國追趕技術,將是由下往上

不過,我不認為EUV會是中國追趕先進技術的唯一關鍵。

曝光機是晶圓廠最昂貴、最難打造和維護的設備,但中國在其他裝備上表現不錯,如中微、北方華創已在國際市場站穩腳步。問題是,要把微影做到艾司摩爾的水準,無論EUV或先進DUV,都極其困難。實驗室能做出樣品是一回事,能在晶圓廠長期穩定量產又是另一回事。

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因此,中國的競爭不會從最高端開始,而是從成熟節點一步步往上。半導體產業的本質是學習曲線與反覆迭代,唯一的路就是累積經驗,再與客戶共同提升。艾司摩爾當年也是靠這種方式建立市佔,憑藉開放心態和與客戶共創。

不過,這一切都發生得太快了。

自從2023年第一版書出版後,我再版都得更新,到現在已經修訂了快十次。我相信這本書還會繼續更新,因為艾司摩爾的故事遠沒有結束。

(責任編輯:黃韵庭)

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造光者:晶片戰爭中最神祕的關鍵企業,微影巨人ASML制霸未來科技賽局的崛起之路
造光者:晶片戰爭中最神祕的關鍵企業,微影巨人ASML制霸未來科技賽局的崛起之路
  • 作者/馬克.海因克
  • 譯者/洪慧芳
  • 出版社/天下雜誌出版
  • 出版日期/2025年9月3日
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